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引用本文:钱达兴,顾华.钠铁硅系统玻璃形成区和磁化率的研究[J].建筑材料学报,2001,(3):289-293
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钠铁硅系统玻璃形成区和磁化率的研究
钱达兴,顾华
作者单位
摘要:
研究了钠铁硅系统玻璃的形成区和磁化率。结果证明:(1)在一定实验条件下,钠铁硅系统玻璃形成区的范围是:x(Na2O)=0-52%;x(Fe2O3)=0-20%;x(SiO2)=48%-100%。(2)钠铁硅系统玻璃的磁化率不仅与Fe2O3的含量有关,而且与Fe^3 在玻璃中的结构地位有关,当Fe^3 处于四配位状态时,Fe^3 的3d电子处于弱场高自旋状态,对磁化率的贡献就较大;当Fe^3 处于六配位状态时,Fe^3 的3d电子处于强场低自旋状态,对磁化率的贡献就较小。(3)磁化度的转折点位于x(Fe2O3)=6%附近。
关键词:  钠铁硅系统玻璃 玻璃形成区 磁化率
DOI:
分类号:TQ171.112
基金项目:
Study on the Glass Forming Area and Magnetization for Glass of Na_2O-Fe_2O_3-SiO_2 System
QIAN Da xing  GU Hua  LIANG Shan shan
Abstract:
Key words:  glass of Na 2O Fe 2O 3 SiO 2 system,forming area of glass,magnetic susceptibility